在人工智能技术迅猛发展的推动下，全球半导体产业对先进制程设备的需求持续攀升。作为光刻机领域的领军企业，ASML近期披露的交付计划显示，其2027年将向客户交付共计66台光刻设备，其中包括10台最新型High-NA极紫外光刻机（EUV）和56台传统EUV光刻机。这一数据印证了市场对高端芯片制造设备的强劲需求。
据行业消息透露，英特尔与三星近期均上调了光刻设备采购规模。英特尔将High-NA EUV的订购量从1台增至2台，同时传统EUV的采购数量也由3台提升至5台。三星方面则将传统EUV的订单从5台追加至7台，显示出这两家半导体巨头在先进制程领域的激烈竞争。值得关注的是，三星虽未调整High-NA EUV的初始订单量，但其技术储备动作引发市场关注。
存储芯片领域呈现出更为突出的扩张态势。SK海力士成为本次采购计划的最大客户，其获得的传统EUV光刻机数量达20台，占ASML该机型年度交付量的35.7%。更引人注目的是，该公司将High-NA EUV的订购量从1台提升至2台，并计划在未来两年内完成全部20台传统EUV设备的安装调试。这些设备将专项用于高带宽内存（HBM）及下一代存储解决方案的研发生产。
从技术落地进度来看，英特尔仍保持着先发优势，预计将成为全球首家在量产环节应用High-NA EUV技术的芯片制造商。但三星与SK海力士正通过加大设备投入缩小差距，尤其是SK海力士的产能扩张计划尤为激进。据知情人士透露，为容纳新增的光刻设备，该公司正在规划建设多座专用厂房，确保有足够的洁净室空间支持设备安装与工艺调试。
尽管多家芯片制造商推迟了新一代High-NA EUV技术的导入时间表，但行业分析师指出，这并未影响市场对光刻设备的长期需求。随着人工智能、高性能计算等领域对先进制程芯片的需求爆发，全球主要半导体企业都在通过扩大设备投资巩固技术优势。ASML的交付数据恰恰反映了这种战略性的产能布局，其光刻设备订单量持续走高印证了产业升级的必然趋势。